Giới thiệu chung về Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 6111:2009
Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 6111:2009 hoàn toàn tương đương với tiêu chuẩn quốc tế ISO 5579:1998. Tiêu chuẩn này quy định các quy tắc cơ bản về thử nghiệm không phá hủy, cụ thể là phương pháp kiểm tra chụp ảnh bức xạ các vật liệu kim loại bằng cách sử dụng tia X và tia Gamma. Dưới đây là tóm tắt chi tiết nội dung Phần mở đầu và các điều khoản đầu tiên từ Điều 1 đến Điều 4 của tiêu chuẩn này.
Điều 1: Phạm vi áp dụng (Scope)
Điều khoản này xác định rõ giới hạn và mục tiêu áp dụng của tiêu chuẩn, bao gồm các điểm cốt lõi sau:
- Tiêu chuẩn này quy định các nguyên tắc cơ bản cho việc chụp ảnh bức xạ công nghiệp bằng tia X và tia gamma nhằm mục đích phát hiện khuyết tật, áp dụng cho các sản phẩm và vật liệu kim loại.
- Hướng dẫn các kỹ thuật chụp ảnh bức xạ cơ bản nhằm đảm bảo việc thu được các phim chụp có chất lượng đồng đều, có khả năng lặp lại kết quả và mang lại hiệu quả kinh tế cao.
- Tiêu chuẩn không thiết lập các tiêu chuẩn đánh giá mức độ chấp nhận của các khuyết tật, mà chỉ tập trung vào kỹ thuật thực hiện và chất lượng của ảnh bức xạ thu được.
Điều 2: Tài liệu viện dẫn (Normative references)
Để áp dụng tiêu chuẩn này một cách chính xác, người sử dụng cần viện dẫn và phối hợp với các tiêu chuẩn quốc tế và quốc gia liên quan sau:
- Các tiêu chuẩn về thuật ngữ và định nghĩa trong thử nghiệm không phá hủy bằng phương pháp chụp ảnh bức xạ.
- Các tiêu chuẩn quy định về hệ thống phim chụp ảnh bức xạ công nghiệp, bao gồm việc phân loại phim và đánh giá chất lượng phim (như ISO 11699-1 và ISO 11699-2).
- Các tiêu chuẩn về chỉ thị chất lượng hình ảnh (IQI) sử dụng để đánh giá độ nhạy của ảnh bức xạ (như EN 462-1, EN 462-2 hoặc các tiêu chuẩn tương đương).
Điều 3: Thuật ngữ và định nghĩa (Terms and definitions)
Tiêu chuẩn đưa ra các định nghĩa chuẩn hóa nhằm thống nhất cách hiểu trong quá trình thực hiện kiểm tra:
- Độ dày danh nghĩa (Nominal thickness - t): Là độ dày thiết kế của vật liệu tại vùng kiểm tra, không tính đến các dung sai chế tạo hoặc phần dư hàn.
- Khoảng cách từ nguồn đến đối tượng (Source-to-object distance - f): Khoảng cách đo từ tiêu điểm của nguồn bức xạ đến bề mặt phía nguồn của đối tượng kiểm tra.
- Khoảng cách từ đối tượng đến phim (Object-to-film distance - b): Khoảng cách từ bề mặt phía phim của đối tượng kiểm tra đến bề mặt của phim chụp.
- Các thuật ngữ chuyên ngành khác liên quan đến mật độ quang học (optical density), độ nhạy tương phản, và độ mờ hình học cũng được định nghĩa rõ ràng để làm cơ sở tính toán kỹ thuật.
Điều 4: Phân loại các kỹ thuật chụp ảnh bức xạ (Classification of radiographic techniques)
Tiêu chuẩn phân chia các kỹ thuật chụp ảnh bức xạ thành hai cấp độ chất lượng khác nhau tùy thuộc vào yêu cầu kỹ thuật và độ nhạy mong muốn:
- Kỹ thuật lớp A (Class A - Basic techniques): Đây là kỹ thuật cơ bản, áp dụng cho các trường hợp kiểm tra thông thường, nơi yêu cầu về độ nhạy phát hiện khuyết tật ở mức trung bình và chi phí vận hành tối ưu.
- Kỹ thuật lớp B (Class B - Improved techniques): Đây là kỹ thuật cải tiến, đòi hỏi độ nhạy phát hiện khuyết tật cao hơn. Kỹ thuật này được áp dụng cho các bộ phận quan trọng, chịu ứng suất lớn hoặc khi kỹ thuật lớp A không đủ khả năng phát hiện các khuyết tật nhỏ, đòi hỏi việc kiểm soát nghiêm ngặt hơn về thông số nguồn, phim và khoảng cách chụp.
- Việc lựa chọn giữa kỹ thuật lớp A và lớp B phải được thỏa thuận cụ thể giữa các bên liên quan (nhà sản xuất, đơn vị kiểm tra và khách hàng) hoặc theo quy định của các tiêu chuẩn sản phẩm cụ thể.
Để sử dụng toàn bộ tiện ích nâng cao của Hệ Thống Pháp Luật vui lòng lựa chọn và đăng ký gói cước.
Non-destructive testing - Radiographic examination of metallic materials by X- and gamma-rays - Basic rules
Lời nói đầu
TCVN 6111 : 2009 thay thế cho TCVN 6111 : 1996.
TCVN 6111 : 2009 hoàn toàn tương đương với ISO 5579 : 1998.
TCVN 6111 : 2009 do Ban kỹ thuật tiêu chuẩn quốc gia TCVN/TC 135 Thử không phá hủy biên soạn, Tổng cục Tiêu chuẩn Đo lường Chất lượng đề nghị, Bộ Khoa học và Công nghệ công bố.
Lời giới thiệu
Đối với danh mục được đệ trình cho kiểm tra chụp ảnh bức xạ bằng tia X và tia gamma, khả năng phát hiện khuyết tật phụ thuộc vào kỹ thuật chụp ảnh bức xạ. Từ đó chất lượng của phim chụp không thể hoàn toàn được đảm bảo bằng cách sử dụng một bộ chỉ thị chất lượng ảnh (I.Q.I), Tiêu chuẩn này giải thích quy tắc cơ bản và quy trình kỹ thuật để đạt được chất lượng ảnh chụp tốt.
Các tiêu chuẩn liên quan đến các ứng dụng riêng cần tuân theo các quy tắc cơ bản này.
CHÚ THÍCH: Trong tiêu chuẩn này thuật ngữ “khuyết tật” không hàm ý khả năng chấp nhận hay không chấp nhận.
THỬ KHÔNG PHÁ HỦY – KIỂM TRA CHỤP ẢNH BỨC XẠ CÁC VẬT LIỆU KIM LOẠI BẰNG TIA X VÀ TIA GAMMA - QUY TẮC CƠ BẢN
Non-destructive testing - Radiographic examination of metallic materials by X - and gamma-rays - Basic rules
Tiêu chuẩn này quy định những quy tắc cơ bản để chụp ảnh bằng tia X và tia gamma trong công nghiệp với mục đích phát hiện khuyết tật, khi dùng kỹ thuật phim, áp dụng cho các sản phẩm và vật liệu kim loại.
Các tài liệu viện dẫn sau rất cần thiết cho việc được áp dụng tiêu chuẩn này. Đối với các tài liệu viện dẫn có ghi năm công bố thì áp dụng phiên bản được nêu. Đối với các tài liệu viện dẫn không ghi năm công bố thì áp dụng phiên bản mới nhất, bao gồm cả các sửa đổi, bổ sung (nếu có).
ISO 1027 : 1983, Radiographic image quality indicators for non - destructive testing - Principles and identification (Bộ chỉ thị chất lượng ảnh bức xạ dùng cho thử không phá hủy - Các nguyên tắc và sự nhận biết).
ISO 2540 : 1973, Radiography of welds and viewing conditions for film - Utilization of recommended patterns of image quality indicators (I.Q.I) (Chụp ảnh bức xạ mối hàn và điều kiện nhìn cho phim – Phép sử dụng mẫu khuyến nghị của bộ chỉ thị chất lượng ảnh).
ISO 5580 : 1985, Non - destructive testing - Industrial radiographic illuminators - Minimum requyrements (Thử không phá hủy - Bộ chiếu sáng chụp ảnh bức xạ công nghiệp – Các yêu cầu tối thiểu).
ISO 11699-1: 2008, Non - destructive testing - Industrial radiographic films - Part 1: Classification of film systems for industrial radiography (Thử không phá hủy - Phim chụp ảnh bức xạ trong công nghiệp – Phân loại hệ thống phim trong phép chụp ảnh bức xạ công nghiệp).
Trong tiêu chuẩn này áp dụng các thuật ngữ và định nghĩa sau:
3.1. Chiều dày danh nghĩa, t (nominal thickness)
Chiều dày danh nghĩa của vật liệu trong vùng kiểm tra.
CHÚ THÍCH: Dung sai trong chế tạo không cần đưa vào.
3.2. Chiều dày đâm xuyên, W (penetrated thickness)
Chiều dày của vật liệu theo hướng chùm bức xạ trên cơ sở chiều dày danh nghĩa bao gồm kỹ thuật đa thành.
3.3. Khoảng cách giữa vật và phim, b (object-to-film distance)
Khoảng cách giữa bề mặt phía chùm bức xạ của vật và bề mặt phim, đo the
Để xem đầy đủ nội dung và sử dụng toàn bộ tiện ích của Hệ Thống Pháp Luật vui lòng lựa chọn và đăng ký gói cước.
Nếu bạn đã là thành viên, hãy bấm:
- 1Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5868:2009 (ISO 9712 : 2005) về Thử không phá hủy - Trình độ chuyên môn và cấp chứng chỉ cá nhân
- 2Tiêu chuẩn quốc gia TCVN5115:2009 (ISO 7963:2006) về Thử không phá hủy - Thử siêu âm - Yêu cầu kỹ thuật của mẫu chuẩn số 2
- 3Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5880:2010 (ISO 3059:2001) về Thử không phá hủy - Thử hạt từ và thử thẩm thấu - Điều kiện quan sát
- 4Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4396-2:2018 (ISO 9934-2:2015) về Thử không phá hủy - Thử hạt từ - Phần 2: Phương tiện phát hiện
- 5Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-2:2018 (ISO 3452-2:2013) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 2: Thử nghiệm các vật liệu thẩm thấu
- 6Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-4:2018 (ISO 3452-4:1998) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 4: Thiết bị
- 7Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-6:2018 (ISO 3452-6:2008) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 6: Thử thẩm thấu ở nhiệt độ thấp hơn 10°C
- 8Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 12618:2019 về Thiết bị kiểm tra hàng hóa bằng tia X loại có băng tải - Kích thước nhỏ - Yêu cầu kỹ thuật và phương pháp thử
- 1Tiêu chuẩn Việt Nam TCVN 6111:1996 (ISO 5579 : 1985) về Kiểm tra không phá hủy - Chụp ảnh bức xạ các vật liệu kim loại bằng tia X và tia gamma - Các quy tắc cơ bản do Bộ Khoa học Công nghệ và Môi trường ban hành
- 2Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5868:2009 (ISO 9712 : 2005) về Thử không phá hủy - Trình độ chuyên môn và cấp chứng chỉ cá nhân
- 3Tiêu chuẩn quốc gia TCVN5115:2009 (ISO 7963:2006) về Thử không phá hủy - Thử siêu âm - Yêu cầu kỹ thuật của mẫu chuẩn số 2
- 4Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5880:2010 (ISO 3059:2001) về Thử không phá hủy - Thử hạt từ và thử thẩm thấu - Điều kiện quan sát
- 5Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4396-2:2018 (ISO 9934-2:2015) về Thử không phá hủy - Thử hạt từ - Phần 2: Phương tiện phát hiện
- 6Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-2:2018 (ISO 3452-2:2013) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 2: Thử nghiệm các vật liệu thẩm thấu
- 7Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-4:2018 (ISO 3452-4:1998) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 4: Thiết bị
- 8Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 4617-6:2018 (ISO 3452-6:2008) về Thử không phá hủy - Thử thẩm thấu - Phần 6: Thử thẩm thấu ở nhiệt độ thấp hơn 10°C
- 9Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 12618:2019 về Thiết bị kiểm tra hàng hóa bằng tia X loại có băng tải - Kích thước nhỏ - Yêu cầu kỹ thuật và phương pháp thử
Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 6111:2009 (ISO 5579 : 1998) về Thử không phá hủy - Kiểm tra chụp ảnh bức xạ các vật liệu kim loại bằng tia X và tia Gamma - Quy tắc cơ bản
- Số hiệu: TCVN6111:2009
- Loại văn bản: Tiêu chuẩn Việt Nam
- Ngày ban hành: 01/01/2009
- Nơi ban hành: ***
- Người ký: ***
- Ngày công báo: Đang cập nhật
- Số công báo: Đang cập nhật
- Ngày hiệu lực: 15/10/2026
- Tình trạng hiệu lực: Kiểm tra
