Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 10310:2014 (hoàn toàn tương đương với ISO 3497:2000) quy định về phương pháp quang phổ tia X để đo chiều dày của các lớp phủ kim loại. Tiêu chuẩn này cung cấp các hướng dẫn kỹ thuật chi tiết nhằm đảm bảo tính chính xác và đồng nhất trong việc xác định độ dày lớp phủ trên các bề mặt vật liệu khác nhau, phục vụ cho công tác kiểm tra chất lượng trong ngành công nghiệp chế tạo và xử lý bề mặt.
Phạm vi và đối tượng áp dụng của tiêu chuẩn
- Tiêu chuẩn này áp dụng đối với việc đo chiều dày của các lớp phủ kim loại trên các nền kim loại hoặc phi kim loại bằng phương pháp quang phổ phát xạ tia X (XRF).
- Đối tượng áp dụng bao gồm các phòng thử nghiệm, tổ chức chứng nhận chất lượng, và các doanh nghiệp hoạt động trong lĩnh vực cơ khí, mạ điện, chế tạo linh kiện điện tử và bán dẫn có sử dụng công nghệ phủ kim loại.
- Phạm vi áp dụng (Điều 1)
- Phương pháp quang phổ tia X được quy định trong tiêu chuẩn này thích hợp cho việc đo lường các hệ thống lớp phủ đơn lớp hoặc đa lớp trên các chất nền khác nhau.
- Quy định các yêu cầu kỹ thuật đối với thiết bị đo, bao gồm nguồn phát tia X, hệ thống đầu dò và bộ xử lý tín hiệu để phân tích cường độ tia X đặc trưng phát ra từ mẫu thử.
- Phương pháp này đặc biệt hiệu quả đối với các lớp phủ mỏng và siêu mỏng, nơi các phương pháp đo cơ học hoặc điện từ không đạt được độ chính xác mong muốn.
- Tài liệu viện dẫn (Điều 2)
- Tiêu chuẩn viện dẫn các tài liệu quốc tế liên quan về đo lường, hiệu chuẩn thiết bị và lớp phủ kim loại để đảm bảo tính đồng bộ, nhất quán trong quá trình áp dụng thực tế tại Việt Nam và quốc tế.
- Thuật ngữ và định nghĩa (Điều 3)
- Định nghĩa rõ ràng các khái niệm chuyên ngành cốt lõi như: cường độ bức xạ đặc trưng, vùng đo hiệu dụng, độ nhạy của phép đo, sai số hệ thống và sai số ngẫu nhiên trong phương pháp quang phổ tia X.
- Làm rõ khái niệm về "lớp phủ" và "chất nền" để làm cơ sở thiết lập các thông số đo lường chính xác trên thiết bị.
- Nguyên lý của phương pháp (Điều 4)
- Nguyên lý đo dựa trên việc kích thích mẫu thử bằng bức xạ tia X sơ cấp để tạo ra bức xạ huỳnh quang tia X thứ cấp đặc trưng từ các nguyên tố có trong lớp phủ hoặc từ chất nền.
- Chiều dày của lớp phủ được xác định bằng cách đo cường độ của bức xạ đặc trưng này và so sánh với các mẫu chuẩn đã biết trước chiều dày thông qua đường cong hiệu chuẩn được thiết lập sẵn.
- Đây là phương pháp đo không phá hủy mẫu, giúp bảo toàn nguyên vẹn hình dáng và tính chất vật lý của sản phẩm sau khi tiến hành thử nghiệm.
Hiệu lực thi hành
TCVN 10310:2014 do Ban kỹ thuật tiêu chuẩn quốc gia TCVN/TC 107 Lớp phủ kim loại và các chất phủ vô cơ khác biên soạn, Tổng cục Tiêu chuẩn Đo lường Chất lượng đề nghị, Bộ Khoa học và Công nghệ công bố và có hiệu lực kể từ ngày ban hành.
Để sử dụng toàn bộ tiện ích nâng cao của Hệ Thống Pháp Luật vui lòng lựa chọn và đăng ký gói cước.
LỚP PHỦ KIM LOẠI - ĐO CHIỀU DÀY LỚP PHỦ - PHƯƠNG PHÁP QUANG PHỔ TIA X
Metallic coating - Measurement of coating thickness - X-ray spectrometric methods
Lời nói đầu
TCVN 10310:2014 hoàn toàn tương đương ISO 3479:2000.
TCVN 10310:2014 do Ban kỹ thuật tiêu chuẩn quốc gia TCVN/TC 174, Đồ trang sức biên soạn, Tổng cục Tiêu chuẩn Đo lường Chất lượng đề nghị, Bộ Khoa học và Công nghệ công bố.
LỚP PHỦ KIM LOẠI - ĐO CHIỀU DÀY LỚP PHỦ - PHƯƠNG PHÁP QUANG PHỔ TIA X
Metallic coating - Measurement of coating thickness - X-ray spectrometric methods
CẢNH BÁO: Tiêu chuẩn này không đề cập tới vấn đề bảo vệ thử nghiệm viên khỏi tác hại của tia X. Thử nghiệm viên phải được đào tạo về an toàn bức xạ. Thiết bị phải được kiểm tra an toàn bức xạ định kỳ theo quy định về an toàn bức xạ hiện hành.
1.1. Tiêu chuẩn này quy định các phương pháp đo chiều dày lớp phủ kim loại bằng cách sử dụng các phương pháp quang phổ tia X.
1.2. Các phương pháp đo quy định trong tiêu chuẩn này chính là các phương pháp xác định khối lượng kim loại trên một đơn vị diện tích. Khi biết tỷ khối của lớp phủ, kết quả phép đo có thể được biểu thị như chiều dày tuyến tính của lớp phủ.
1.3. Các phương pháp đo cho phép đo đồng thời những hệ phủ có tới 3 lớp, hoặc đo đồng thời chiều dày và thành phần các lớp có đến ba cấu tử.
1.4. Các phạm vi đo thực tế của vật liệu phủ đã cho thường được xác định bởi năng lượng huỳnh quang tia X đặc trưng cần được phân tích và bởi độ không đảm bảo đo chấp nhận được của phép đo và chúng có thể khác nhau tuỳ thuộc vào hệ thống thiết bị và quy trình vận hành sử dụng.
Tiêu chuẩn này áp dụng các định nghĩa và thuật ngữ sau:
2.1. Huỳnh quang tia X, XRF (X-ray fluorescence, XRF)
Bức xạ thứ cấp được sinh ra khi một chùm tia X tới có cường độ lớn tác động lên một vật liệu nằm trên đường đi của chùm tia tới.
CHÚ THÍCH: Phát xạ thứ cấp có các bước sóng và năng lượng đặc trưng cho vật liệu đó
2.2. Cường độ bức xạ huỳnh quang (intensity of flourescent radiation)
Cường độ bức xạ, X, được đo bằng một thiết bị, được biểu thị bằng số lần đếm (các xung bức xạ) trên giây.
2.3. Chiều dày bão hoà (saturation thickness)
Đó là chiều dày, nếu vượt quá sẽ không sinh ra bất kỳ một thay đổi nào nhận biết được ở cường độ huỳnh quang.
CHÚ THÍCH : Chiều dày bão hoà tuỳ thuộc vào năng lượng hoặc bước sóng của bức xạ huỳnh quang, vào tỷ khối và số nguyên tử của kim loại đó và phụ thuộc vào góc của bức xạ tới và góc của bức xạ huỳnh quang so với bề mặt kim loại đó.
2.4. Cường độ chuẩn hoá xn (normalized intensity)
Tỷ số của hiệu cường độ đo được từ một mẫu thử được phủ, x, và một vật liệu nền không phủ, x0, và hiệu đo được từ một vật liệu có chiều dày bằng hoặc lớn hơn chiều dày bão hoà , xs, (xem 2.3) và một vật liệu nền không phủ, x0, tất cả được đo trong cùng một điều kiện.
CHÚ THÍCH 1: Mối quan hệ toán học được biểu thị như sau:
xn = ![]()
Trong đó:
X là cường độ đo được từ mẫu thử được phủ;
Xo là cường độ đo được từ vật liệu nền chưa được phủ;
Xs là cường độ đo được từ
Để xem đầy đủ nội dung và sử dụng toàn bộ tiện ích của Hệ Thống Pháp Luật vui lòng lựa chọn và đăng ký gói cước.
Nếu bạn đã là thành viên, hãy bấm:
- 1Tiêu chuẩn quốc gia TCVN5878:2007 (ISO 2178:1982) về Lớp phủ không từ trên chất nền từ - Đo chiều dầy lớp phủ - Phương pháp từ
- 2Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5026:2010 (ISO 2081: 2008) về Lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Lớp kẽm mạ điện có xử lý bổ sung trên nền gang hoặc thép
- 3Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5027:2010 (ISO 2082:2008) về Lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Lớp cadimi mạ điện có xử lý bổ sung trên nền gang hoặc thép
- 4Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5024:2007 (ISO 1458:2002) về Lớp phủ kim loại - Lớp mạ niken
- 1Tiêu chuẩn quốc gia TCVN5878:2007 (ISO 2178:1982) về Lớp phủ không từ trên chất nền từ - Đo chiều dầy lớp phủ - Phương pháp từ
- 2Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5026:2010 (ISO 2081: 2008) về Lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Lớp kẽm mạ điện có xử lý bổ sung trên nền gang hoặc thép
- 3Tiêu chuản quốc gia TCVN 8571:2010 (ISO 2080:2008) về Lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Xử lý bề mặt, lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Từ vựng
- 4Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5027:2010 (ISO 2082:2008) về Lớp phủ kim loại và lớp phủ vô cơ khác - Lớp cadimi mạ điện có xử lý bổ sung trên nền gang hoặc thép
- 5Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 5024:2007 (ISO 1458:2002) về Lớp phủ kim loại - Lớp mạ niken
Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 10310:2014 (ISO 3497:2000) về Lớp phủ kim loại – Đo chiều dày lớp phủ - Phương pháp quang phổ tia X
- Số hiệu: TCVN10310:2014
- Loại văn bản: Tiêu chuẩn Việt Nam
- Ngày ban hành: 01/01/2014
- Nơi ban hành: ***
- Người ký: ***
- Ngày công báo: Đang cập nhật
- Số công báo: Đang cập nhật
- Ngày hiệu lực: 08/08/2026
- Tình trạng hiệu lực: Kiểm tra
